发布时间 : 星期日 文章ITO透明导电薄膜的制备综述更新完毕开始阅读4178931a59eef8c75fbfb327
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数。为了扩大ITO的应用范围，必须不断改进已有的制备工艺，开发新工艺，使制成的薄膜电阻率底、光透射率高、表面平整；与基体附着力强，并且能够大面积均匀成膜，制备成本低；
（3）当前，人们对低温乃至室温下制备柔性衬底的ITO薄膜非常重视[11]。因为低温工艺镀制ITO薄膜不仅节能、降耗、简化设备、降低成本，而且能在玻璃衬底和柔性衬底上镀膜。柔性衬底导电膜具有可挠曲、质量轻、不易碎、易于大面积生产和便于运输等优点。Muneshwar[12]等人研究了在接近室温的环境下，在柔性衬底上磁控溅射沉积ITO薄膜。实验结果表明，ITO薄膜的平均透射率为82%，电阻率小于8.2×10-4Ω·cm，性能较为优良。但是现在还不是很清楚柔性衬底与ITO薄膜的结合机理，有待进一步研究。
随着科学技术研究的不断深入和高新技术及现代国防发展应用的需要，ITO透明导电薄膜必将在新型的电子薄膜材料中占有越来越多重要的地位。
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