华师一附中高一化学期末考试试卷及答案解析 联系客服

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高一年级化学试题

可能用到的相对原子质量:H:1 C:12 N:14 O:16 Na:23 Mg:24 Al:27 Si:28 S:32 Cl:35.5 Fe:56 Cu:64 Ba:137

一、选择题:本题包括16小题,每小题3分,共计48分,每小题只有一个选项符合题意。 1.下列说法中不正确的有

①火灾现场有大量活泼金属存放时,用水灭火

②铝盐、铁盐有净水作用,向浑浊的水中加入少量明矾或硫酸铁溶液,搅拌,过一段时间,水的底部会出现很多絮状不溶物,水变澄清透明

③地球上存在的天然二氧化硅形态有结晶形和无定形两大类,统称硅石

④常温下,将氯气通入NaOH溶液中可以得到以次氯酸钠(NaClO)为有效成分的漂粉精

⑤氯化物在化学工业领域有重要应用,例如SiCl4、GeCl4、TiCl4分别是制取高纯硅、锗和钛的重要中间物质

A.0项 B.1项 C.2项 D.3项 2.实验室制备Al(OH)3沉淀,最适宜的方法是

A.AlCl3溶液中加入NaOH溶液 B.AlCl3溶液中加入足量的氨水 C.NaAlO2溶液中加入浓盐酸 D.Al2O3溶于足量的热水中

?2?2?3.某溶液中含有HCO3、SO3、CH3COO?、CO3四种离子,若向其中加入Na2O2后,

溶液中离子浓度基本保持不变的是

? A.HCO3

C.CH3COO?

2?D.CO3

2?B.SO3

4.下列各组离子因发生氧化还原反应而不能大量共存的是

?? A.H+、Fe2+、NO3、SO24

???

B.Al3+、NO3、SO24、AlO2? C.OH、HCO3、Cl、K+

D.Fe3+、K+、SCN、Cl

5.为除去括号内的少量杂质,所选用的试剂或方法不正确的是

A.Na2CO3溶液(NaHCO3),加入适量的NaOH溶液 B.NaHCO3溶液(Na2CO3),通入过量的CO2气体 C.CO2气体(HCl气体),通过饱和的Na2CO3溶液 D.SiO2(H2SiO3),加热

6.在甲、乙、丙、丁四个烧杯内分别放入0.1 mol钠、氧化钠、过氧化钠和氢氧化钠,然后各加入100 mL水,搅拌,使固体完全溶解,则甲、乙、丙、丁的质量分数的大小顺序为 A.甲<乙<丙<丁 B.丁<甲<乙=丙

C.甲=丁<乙=丙 D.丁<甲<乙<丙

[7.下列各种叙述中,正确的是

---

①Cl和Cl2的性质相同 ②ClO具有氧化性 ③Cl比Cl多一个电子 ④盐酸兼有酸

性、氧化性、还原性 ⑤Cl具有酸性 ⑥Cl2的氧化性比MnO2的强 ⑦Cl2只有氧化性而没有还原性

A.①②⑤⑥ B.仅②④⑥ C.仅②③④ D.②③④⑥ 8.下列离子方程式或化学方程式中正确的有

①向次氯酸钙溶液中通入过量CO2:Ca2+2ClO+H2O+CO2===CaCO3↓+2HClO

②向次氯酸钙溶液中通入SO2:Ca2+2ClO+H2O+SO2===CaSO3↓+2HClO

③将CO2气体通过过氧化钠固体:2CO2+2Na2O2===2Na2CO3+O2 ④将SO2气体通过过氧化钠固体:2SO2+2Na2O2===2Na2SO3+O2

⑤氢氧化钙溶液与碳酸氢镁溶液反应:Ca2+OH+HCO3===CaCO3↓+H2O

⑥在氯化亚铁溶液中加入稀硝酸:3Fe2+4H+NO3===3Fe3+2H2O+NO↑

⑦硫酸铁溶液与氢氧化钡溶液反应:Fe3+3OH===Fe(OH)3↓

⑧硫化钠溶液与氯化铁溶液反应:2Fe3+3S2===Fe2S3

A.2项 B.3项 C.4项 D.5项

9. 水溶液X中只可能溶有Na+、K+、Mg2+、Al3+、AlO2-、SiO32-、HCO3-、CO32-、SO42-中的若干种离子。某同学对该溶液进行了如下实验:

下列判断正确的是

2?A.K、AlO?2和SiO3一定存在于溶液X中

??B.B.HCO3和SO24一定不存在于溶液X中

C.沉淀甲是硅酸和硅酸镁的混合物

2?D.溶液中一定存在大量CO3

10.下列各物质中,不能够按照 物质

编号

A.1项

1 2 3 4 5 6 7 8 9

(“→”表示一步完成)关系相互转化的有 a Na NaOH Al2O3 AlCl3 FeO MgCl2 CuO Si C b Na2O2 NaHCO3 NaAlO2 Al(OH)3 Fe(NO3)2 Mg(OH)2 CuSO4 SiO2 CO

C.3项

c NaCl Na2CO3 Al(OH)3 NaAlO2 Fe(OH)2 MgO Cu(OH)2 H2SiO3 CO2

D.4项

B.2项

11.某干燥粉末可能由Na2O、Na2O2、Na2CO3、NaHCO3、NaCl中的一种或几种组成。将该粉末与足量的盐酸反应有气体X逸出,X通过足量的NaOH溶液后体积缩小(同温、同压下测定)有剩余气体。若将原来混合粉末在空气中用酒精灯加热,也有气体放出,且剩余固体的质量大于原混合粉末的质量。下列判断正确的是 ①粉末中一定有Na2O、Na2O2、NaHCO3

②粉末中一定不含有

Na2CO3和NaCl

C.③④

D.①④

③粉末中一定不含有Na2O和NaCl

A.①② B.②③

④无法肯定粉末中是否含有Na2CO3和NaCl

12.某同学用以下装置制备并检验Cl2的性质。下列说法正确的是

A.Ⅰ图:若浓盐酸过量,则理论上MnO2可全部消耗完 B.Ⅱ图:证明新制氯水只具有酸性 C.Ⅲ图:产生了棕黄色的雾

D.Ⅳ图:湿润的有色布条褪色,说明氯气具有漂白性

13.在硫酸铁溶液中,加入a g铜完全溶解后再加入b g铁,充分反应后得到c g残余固体,下列说法中正确的有

①若a>c,则残余固体是铁和Cu的混合物 ②若a>c,则最终溶液中一定有Fe2+、和Cu2+ ③若a>c, 则最终溶液中一定没有Fe3+ ④若a

A.0项

B.1项

C.2项

D.3项

14.向一定量Fe、FeO和Fe2O3的混合物中,加入120 mL 4 mol·L?1的稀硝酸,恰好使混合物完全溶解,放出1.344 L(标准状况)气体,往所得溶液中加入KMnO4的酸性溶液,无明显现象,若用足量的H2在加热条件下还原相同质量的混合物,能得到铁的物质的量为 A.0.21 mol

B.0.14 mol

C.0.16 mol

D.0.24 mol

15.浓度相同的NaOH溶液各100 mL倒入A、B、C三个烧杯中,分别向三份溶液中通入不等量的CO2,充分反应后,再向三份所得溶液中逐滴加入0.2 mol/L的盐酸,产生CO2的体积与所加盐酸体积之间关系如下图所示。下列判断正确的是 A.通入CO2后,A烧杯中的溶质成分是Na2CO3 B.B烧杯中通入的CO2体积为448 mL C.原NaOH溶液的浓度为0.2 mol/L

D.通入CO2后,C烧杯中溶质成分的物质的量之比为n(NaOH)∶n(Na2CO3)=1∶2 16.某学生用NaHCO3和KHCO3组成的某混合物进行实验,测得如下数据(盐酸的物质的量浓度相等),下列分析推理正确的是 m(混合物) V(CO2) 100mL 盐酸 14.2g 3.36L 100mL 盐酸 25g 4.48L

100mL 盐酸 27.6g 4.48L A.盐酸的物质的量浓度为3.0mol·L?1 B.加入混合物14.2g时盐酸不足 C.加入25g混合物时盐酸过量

D.根据表中数据计算出混合物中NaHCO3与KHCO3的物质的量之比是1:2

二、非选择题:本题包括5个题,共52分

17. (8分)A是一种红棕色氧化物,B、D是常见金属单质,J是一种难溶于水的白色化合

物。受热后容易发生分解。

按要求写方程式:

(1)A与B在高温条件下生成C和D的化学方程式:_________________________ (2)F在空气中转化为G的化学方程式:___________________________________ (3)C转化为I的离子方程式:_______________________________________ (4)E转化为K的离子方程式:______________________________________

18.(14分)硅单质及其化合物应用范围很广。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三

氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

④H2 焦炭②HCl ③ 精馏????粗硅?573K????石英砂①SiHCl粗SiHCl纯????33高温 以上?1357K???高纯硅

(1)第①步制备粗硅的化学方程式为________________________________。 第④步由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式为___________________________________。

(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图所示(热源及夹持装置均已略去):

①装置B中的试剂是________,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是________。 ②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是________。

③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式: ________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是________;整个制备过程必须严格控制_____________。

(3)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A.碳化硅硬度大,可用于生产砂纸、砂轮等

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维