发布时间 : 星期五 文章TSMC工艺的 - 版图教程更新完毕开始阅读9d5c5070fad6195f302ba613
——————其他快捷键—————————— E 看symol里面的电路 Ctrl+E 退出看内部电路
F 让原理图居中 P PIN管脚快捷键 W 连线
L 命名连线 C 复制
Q 器件属性 M 移动 U 撤销
其他相关设置:
设置回退次数 CIW窗口--options--user preference
多个器件属性一起修改,用shift选中以后然后选all selected(原先是only current)
二、版图设计
打开dualinv的schematic电路图,然后Tools--Design Synthesis--Layout XL
之后弹出以下对话框
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点击OK后弹出
点击OK就会自动弹出画layout的版面
此时键盘上按E键,出现设置窗口
这里修改分辨率,将X Snap Spacing 和Y Snap Spacing 修改为0.005,方便之后的画图。点击OK
在画layout版面的菜单中选择 Design--Gen From source
然后弹出以下窗
口
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点击OK即可,版面上就生成与原
schematic电路图相对于尺寸的MOS管,如下图
[注:可以不gen from source而直接在画版图的版面按快捷键I添加layout器件,再修改尺寸,这样也可以通过LVS(经过测试即使版图中MOS的编号和schematic中的不同,但是最终输出子电路中MOS管编号跟schematic是相同的)]
选择那四个绿色的方框和紫色的线,按delete
删除,删除后就剩下四个MOS管。
按shift+F 将MOS管转换为可视的layout结构,并用M快捷键来移动MOS管,此时整个版面上就剩下四个MOS管了,(Ctrl+F可以还原为Schematic结构)如下图
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工具栏左边的放大镜可以放大和缩小,或者使用快捷键Z(放大),shift+z缩小 (按了Z键要选某一个区域才能放大,不是直接放大与缩小)
接下来开始画图:
1、 画PMOS管和NMOS管相连的栅极(用LSW窗口中得POLY1
来画)
选中POLY1 drw 然后点版图,然后按R(画方框),Q属性可以看到是dg
(在空白处)按S键,鼠标移到矩形框的边,就能修改矩形框。
修改之后让矩形框与PMOS管 NMOS管的栅极对齐。(一定要对齐,不然DRC报错)
放大可以看到他们是否对齐,
这样的是对齐的。
画好POLY1以后如下图
这样就是没对齐。
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