发布时间 : 2024/5/17 17:43:18 星期五 文章第三讲 体硅加工 - 图文更新完毕开始阅读b368a92c7375a417866f8f5a

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刻蚀液的组成：

48%HF：99.8％C2H5OH：H2O＝1:2:17（体积比） 室温工作，300W卤素灯背照明，直流2.5V或者小于30mA/cm2的电流密度，Pt阴极。

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